Grupos Protectores
Randolph Alonso
Methyl Ether ROMe

Formation
1. Me2SO4, NaOH, Bu4N+I-, Organic Solvent 60-90%
2. MeI or Me2SO4, NaH or KH, THF
3. CH2N2, Silica gel, 0-10 oC, 100% yield
S
S
S
C H 2 N 2, E t2 O
OH
O
OH
O
S
O
S ilica gel
83%
O
H
O
H
O
Methyl Ether ROMe
4. MeI, Solid KOH, DMSO, 20o, 5-30 min., 85%. Ref. T. Nakata,
Tetrahedron lett., 26, 6461 (1985)
5. Debido al incremento de la acidez y un reducido requerimiento
estérico del carbohydrato hydroxilo, t-BuOK puede usarse como una
base
O
OH
O
O
t-B uO K , M eI
O
O
O
O
O
O
O
T H F , 1 00 %
O
Methyl Ether ROMe
6. Me2SO4, DMSO, DMF, Ba(OH)2, BaO, rt. 18h, 98%
O
O
H 3C
O
HO
C O 2C H 3
C O 2C H 3
Remoción
1. MeSiI, CHCl3, 25oC, 6h, 95%
2. BBr3, NaI, 15 crown-5
Methyl Ester no son removidos
Methyl Ether ROMe
3. BBr3. ETOAC, 1h, 95%, o BBr3, CH2Cl2, 
OAc
H 3C O
-28
C O 2C H 3
OAc
OAc
O
B B r3, C H 2 C l2
12 o C
O
C O 2C H 3
H
OAc
C O 2C H 3
4. BF3ET2O, HSCH2-CH2-SH, HCl, 15 h, 82%
5.
OH
O -C H 3
B zO
OH
B zO
OH
A lC l 3 /B u 4 N + I C H 3 C N , 83 %
OH
O
O
OH
O
O
Methyl Ether

Metoximetil Eter CH3OCH2-OR
1. CH3OCH2-Cl, NaH, THF, 80%
O
O
H 3 C -S -H 2 C O
H 3 C -S -H 2 C O
D M E , reflux, 12h, 88%
HO
M O M -O
C O 2 C H 2 C H 2 -TM S
C O 2 C H 2 C H 2 -TM S
Mono MOMO Derivados de Dioles
OH
OH
D IB A H , -78 o
O
(M eO ) 3 C H
10 m in
C H 2 C l 2 , r.t. 24 h
O
O
OMOM
OH
Methyl Ether
Remoción
1. Cat.HCl[], MeOH, 62oC, 15 min.
2. 6M HCl, THF, 50oC, 95%

H
H
D o w ex , 5 0 w
M eO H , 93%
OMOM
OH
Methyl Ether

Tetrahydropirano Ether (THP-OR)

Dihydropirano, TsOH, CH2Cl2. 2oC
O
OR
Remoción
Explosión ocurre cuando se destila
OH
O TH P
B 2H 6
H 2O 2- O H
OTHP
O
Methyl Ether
t-butil Éter

Puede ser preparado con varios alcoholes incluyendo alcoholes alílicos.
El éter es estable, excepto frente a los ácidos.
Isobutilene, BF3ET2O, H3PO4, 100%
OH
O
Remoción
N2, CF3COOH, 0-20o, 1-16 h, 80-90%
O -t-B u
O
Benzyl Ether

Benzyl Ether (Br-OR) PhCH2-O-R
1. BnCl, KOH, 140oC, 86%
2. BnCl, Bu4N+HSO4-, 50% KOH, Benzene.
3. NaH, THF, BnBr, Bu4N+I- 20o, 3h, 100%
B nO
B nB r, D M F
HO
O
AgO 2 , 48 h, rt
76 %
O
O
O
Benzyl Ether
Remoción
1. H2/Pd-C, EtOH, 95% Pd<, J. Org. Chem., 29, 3725, 1964.

2. Raney Nickel W4, EtOH, H2
3. NaNH3, 15 seg., 97%
C O 2C H 3
C O 2C H 3
HO
HO
H
H
OBn
OH
Benzyl Ether
Phenyl benzyl Ether p-C6H5-C6H4-CH2-OR / NaH
Remoción Pd/C H2 / EtOAc 52%
Ref. Am Chem. Soc, 113, 6320, 1991.
O
OH
O
C O 2H
C O 2H
OH
O
O
O
O
OH
O
N o C liv a
b en zil eter
OH
HO
HO
O
OH O
Éter de Silano

Trimetil Silano Éter (TMS-OR)
Formación Me3SiCl, Et3N, THF, 25o, 8h, 90%
OH
HO
0,5 Eq, H M D S , TH F
1 gota T M S -C l, R eflux
Remoción :
1. Bu4N+F-, THF, Conditions Apróticas.
2. K2CO3, MeOH Anhydrous, 0oC 100oC
O TM S
HO
Éter de Silano

Trietilsilano (TES-OR) Et3SiOR
Et3SiCl, Pyr
Remoción 2% HF o HF/Pyr.


t-Butil Dimethylsilylether
TBDMS-OR (t-BuMe2-
SiOR)
TBDMS-Cl, Imidazole, DMF, 25oC, 10h, %
Éter de Silano
OH
O TB D M S
COOH
R
T B D M S -C l, D B U
C H 3 C N , 0 o , 24 h , rt.
COOH
R
NH2
NH2
OH
OH
SO 2Ph
T B D M S -C L / Im
D M F, 79%
HO
TBDM SO
SO 2Ph
Éter de Silano
Remoción
Bu4N+F-, THF, 25oC, 1h > 90% yield

El ión Fluoruro es muy básico, especialmente en
condiciones anhidras.
Ésta puede ser controlada con la adición de ácido acético.
Comercial
1 TBAF, contiene H2O,  rendimiento
Molecular Sieve 2.3%
2 KF, 18-Crow-6
Éter de Silano
Remoción selectivo de R-OH Primarios en presencia de Secundarios.
TBDMSO
OTBDM S
B O C -H N
A c O H , H 2O
TBDM SO
OH
B O C -H N
TH F, 15 h,
O
O
O
O
o Ácido Trifluoroacético, H2O, CH2Cl2, (9:1), rt, 96h
B
B
O
O
OTBDM S
TBDM SO
O
OTBDM S
HO
O
Éter de Silano

R = TBDMS o TBDPS
B
B
O
O
K 2 C O 3 , M eO H
OH
RO
OTBDMS
48 h , rt
OH
HO
OTBDMS
Éter de Silano

El TBDPS-OR (t-BuPh2-Si-O-R)
100 > más estable TBDMS
El TBDPS < estable frente a una base que TBDMS
K2CO3/MeOH
9M MH4OH 60oC
Estable
80% ACOH que cliva a TBDMS
HBr/AcOH
Éter de Silano

Formación
TBDPSi-Cl, Imidazol, DMF, rt
Remueve con Bu4N+F-, THF, 25oC, 1-5h, 90%
Py, HF, THF
LiAlH4 en algunos casos puede remover
CONH2
C H 2N H 2
L iA lH 4
C O 2C H 3
TBD P SO
C H 2O H
HO
Acetato
 Tricloro acetato
Formación Cl3C-COCl, Py, DMF, 20oC, 2 días, 87%
HO
HO
S
O
HO
OH
TM SO
S
O
HO
O
TM SO
C l3
Remoción, NH3, EtOH, CGCl3, 6h, 81%
Es selectivo en presencia de acetato
O
Éster de Benzoato

Éster Benzoate (Bz-OR) PhCO2-R
El Éster de Benzoato es uno de los más comunes
ésteres usados para protección de alcoholes,
> estables que acetatos
Formación BzCl o Bz2O, Py, 0oC Benzoilchloride / CH2Cl2
OH
OBz
OH
O
OBz
O
O
O
O
O
Éster de Benzoato

Remoción selectiva
O
B
O
B
H 2N N H 2, A C O H , P y
20 C , 7 d ia s, 8 0%
B zO
OBz
B zO
T.L. 35, 9717, 1994
B zO
OH
B zO
Protección con cíclico acetales y cetales
Metilen Acetal

1. 40% CH2O, conc. HCl, 50oC, 4 días
2. Paraformaldehido, H2SO4, AcOH, 90oC, 1 h.
3. (MeO)2CH2, lutidine
4. CH2Br2, KOH, DMSO, rt, 49%
OH
OH
O
O
C O 2C H 3
OBn
C O 2C H 3
OBn
OBn
O Bn
Protección con cíclico acetales y cetales

Remoción
1. BCl3, CH2Cl, -80oC, 30 min.
2. HF, EtOH, THF, 0-5oC, 14h
O
O
O
O
O
HO
HO
O
O
OH
OH
Protección con cíclicos acetales y cetales

Ethylidiene Acetal
CH3CHO, CH3CH(OMe)2 o Paraldehyde, [ ] H2SO4/
TsOH, H2O, THF, 72%.
HO
O
HO
OH
O
OH
O
O
Protección con cíclicos acetales y cetales
Acetonida (Isopropylidena Cetal)
Más comúnmente utilizado en 1,2 diol.

OH
OH
A ceto n a , T sO H
OH
O
O
OH
rt, 1 00 %
OH
3 pe n tan o n e, T H F , T sO H
90%
OH
+
O
O
O
(9:1)
O
Protección con cíclicos acetales y cetales

Isomerización
HO
O
T sO H
O
1:10
OH
Remoción
1. 1N HCl, TFH

2. 2N HCl, 80o, 6h
3.BCl3, Et2O
CF3CO2, THF, H2O, 83%
O
O
Protección con cíclico acetales y cetales

Ethoxietilene HC(OMe)3 o HC(OEt)3, Ácido catalítico.
O
O
O
O
HO
HO
70 %
HO
O
O
OH
O

Remoción 98% Ácido Fórmico, HCl
O
OH
O
(t-B u) 2 A lH
O
OMOM
Protección de Fenoles

Metil Éter
Formación
1. MeI, K2CO3, Cetona , Reflux, 6h
2. Me2SO4, NaOH, EtOH, reflux, 3h
OCH3
OH
O
OH
O
M e 2 SO 4 , N a O H
M eI, K C O 3
caton a, reflux , 6 h
HO
H 3C O
O
3. LiCO3, MeI, DMF, 55oC, 18h, 54-90%
O
O
HO
HO
HO
O
O
Methyl Ether Ph-OMe

Diazometano, Éter, 80%
OH
O
OH
O
O
O
C H 2 N 2 , e te r
8 0%
BnO
OH
BnO
O
Methyl Ether Ph-OMe
Remoción
1. Me3SiI, CHCl3, 25oC, 72%

2. K+, Tolueno, 18crow-6, 100%
3. Sodio Benzylselenide PhCH2SeNa o
sodio Tiocresolato pCH3-Ph C6H4SNa en DMF
Reflux
O
O
N
O
N
HO
Methyl Ether Ph-OMe
J prakt. Chem / Chem Ztg., 337, 405, 1995
Remoción
O
OH
NO2
NO2
L iI
Q uinolina
R
R
O
OH
O
O
O
t-B u O K
M ic roo n d as
O
O
OH
K F , A l2 O 3
5 h, 21 0 oC
Methyl Ether Ph-OMe
O
O
O
O
OH
O
A lC l 3 , 75 &
O o C , 3 h.
Benzil Éter PhCH2-O-R
OH
OBn
K 2C O 3, B n B r
cetona, 71 %
C O 2C H 3
OH
Remoción, H2 / Pd/ C / Ac2O
C O 2C H 3
OH
Aril toluen sulfonato
ArOSO2C6H4-p-CH3
O
OH
O
OTs
TsC l, K 2 C O 3 ,cetona
C H 3 I,K 2 C O 3
OH
OH
NH2
OTs
NH2
E t3N
T sC l, C H 2 C l 2
OH
Py
NHTs
OH
Remoción KOH, H2O, EtOH
Protección de Catecoles
Acetato de Metileno
Formación CH2Br, NaOH,76%
BrCH2Cl, DMF, CsCO3, 86%
Remoción AlBr3, CH3SCH3,
BCl3,CH3SCH3,83%, 98%
O
O
Carbonato Cíclico
OH
OH
OH
F o sg en o
O
O
N aO H
OH
O
Acetales o Cetales R2(OCH3)2
MeOH, HCl seco, 2 min.
H
H
O
O
O
O
O
O
O
MeOH, MH4Cl, reflux, 1.5 h, 66%
O
H
H
O
O
O
O
1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos
O
O
H
H
OH
O
O
O
OH
T sO H , 9 1%
O
O
OH
OH
H+
O
O
O
1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos
Remoción pyridium tosilato (PPTS), Cetona, Agua, calor, 100%
5% HCl, THF, 25o, 20 h.
O
O
OAc
OAc
O
O
O
OAc
C O 2C H 3
OAc
C O 2C H 3
N-t-Butoxicarbonilamida (BOC-NRCO-)
t-C4H9OCO-NRCO-
Formación (BOC)2O, Et3N, DMAP, 25o C, 15h, 78-96 %
BuLi, (BOC)2O
Remoción MeONa, LiOH, NH2NH2,
TMSOTf, CH2Cl2
H
H
OH
TM SOTf
N
BOC
O
O
O
HO
OH
NH
O
C H 2 C l 2 / P hS H
0 o C , 1h
O
O
HO
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